蝕刻加工原理:通常所指金屬蝕刻加工也稱光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，使用兩個(gè)陽(yáng)性圖形通過(guò)從兩面的化學(xué)研磨達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。化學(xué)蝕刻是很有針對(duì)性的，是專指受控腐蝕，是金屬通過(guò)化學(xué)方法進(jìn)行一種可以控制的加工方法。

隨著電子技術(shù)的發(fā)展，越來(lái)越需要許多幾何形狀復(fù)雜、精密度要求高而機(jī)械加工難以實(shí)現(xiàn)的薄形工件。而光化學(xué)蝕刻方法卻易達(dá)到部件平整、無(wú)毛刺、圖形復(fù)雜的要求，且加工周期短、成本低。它的化學(xué)原理是利用三氯化鐵水溶液作為腐蝕劑與金屬反應(yīng)：
   2FeCl3 ＋ Fe＝ 2FeCl2 

2FeCl3 ＋ Cu＝ CuCl2 ＋ 2FeCl2
   在氯離子和氧化劑共存的條件下就可以發(fā)生金屬腐蝕。FeCl3作為一種較強(qiáng)的氧化劑，其腐蝕作用取決于Fe3 +＋e→Fe2+反應(yīng)的氧化還原電位（0.77V），加之溶液中含有大量的氯離子，且 PH 值低、酸性強(qiáng)，所以對(duì)金屬有強(qiáng)烈的腐蝕傾向。在更多的場(chǎng)合所指的都是金屬與周圍環(huán)境介質(zhì)接觸，并與之發(fā)生化學(xué)或電化學(xué)作用而引起的破壞、變質(zhì)所導(dǎo)致的金屬化學(xué)損失行為。蝕刻液中的蝕刻過(guò)程，首先是在金屬零件表面發(fā)生晶粒的溶解作用；其次在晶界上也發(fā)生溶解作用，晶界是以不同于晶粒的溶解速度發(fā)生溶解作用的。金屬表面存在著電位差，電位正的地方得到暫時(shí)的保護(hù)，電位負(fù)的地方被優(yōu)先蝕刻。

  金屬蝕刻加工工藝流程：原材料除油處理--水洗--貼干膜（或滾涂）--曝光--顯影--圖文轉(zhuǎn)移效果自檢--干燥--修版--修版效果自檢--蝕刻--退膜--品質(zhì)檢驗(yàn)--包裝。首先我們據(jù)客戶提供的文件進(jìn)行處理制作出菲林，然后由光反應(yīng)通過(guò)菲林把圖案轉(zhuǎn)移到涂有感光油墨的蝕刻鋼片正、反面上，之后又經(jīng)化學(xué)反應(yīng)把圖案顯現(xiàn)在鋼片上。然后經(jīng)化學(xué)分解的方法把圖案蝕刻掉，這樣一件新產(chǎn)品就初步完成了。

  金屬蝕刻加工的特點(diǎn)：蝕刻加工的準(zhǔn)備周期短，設(shè)計(jì)圖紙完成后照相底版可以很快做好。同時(shí)圖紙可以根據(jù)需要隨時(shí)更改，這對(duì)于產(chǎn)品設(shè)計(jì)階段零部件的制作是非常可貴的。而在模具加工中，模具制作費(fèi)用較高，周期較長(zhǎng)，同時(shí)在制作模具時(shí)，圖紙要一次性設(shè)計(jì)完成，不可中途更改，否則成本會(huì)更高。 化學(xué)蝕刻加工技術(shù)，由于具有加工厚度越薄，精度越高的特點(diǎn)。

  卓力達(dá)是國(guó)內(nèi)實(shí)力雄厚的蝕刻廠，是PCMI協(xié)會(huì)會(huì)員，自建大型污水處理站，是南通市為數(shù)不多的允許排污的企業(yè)。擁有多條進(jìn)口蝕刻加工生產(chǎn)線，已經(jīng)和多家世界500強(qiáng)企業(yè)合作，卓力達(dá)通過(guò)提升蝕刻技術(shù)水平，采用卷對(duì)卷設(shè)備進(jìn)行曝光和蝕刻加工，蝕刻加工的選擇卓力達(dá)，免費(fèi)提供金屬蝕刻加工工藝解決方案以及蝕刻行業(yè)資訊。

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