光柵碼盤

光柵碼盤具有分辨能力強、測量精度高和工作可靠等優(yōu)點，光柵碼盤一般采用SUS304進口或國產(chǎn)不銹鋼材料蝕刻加工而成，廣泛應用于編碼器，玩具五金，電腦配件，測速電機，編碼器[更多]

電鑄剃須刀網(wǎng)

電鑄剃須刀網(wǎng) 也稱為電鑄網(wǎng)罩 或靜刀，是指電動剃須刀的一種關 鍵部件， 主要用于捕捉和固定須發(fā)，以便剃須刀頭能夠有效地 進行剪切[更多]

電鑄糖網(wǎng)

具有高精度、耐用性和良好的過濾性能等優(yōu)點。電鑄糖網(wǎng)廣泛應用于食品工業(yè)，特別是糖類產(chǎn)品的過濾和篩分[更多]

電鑄光柵

具有高精度、高反射率、耐用性和復雜結構等優(yōu)點。電鑄光柵廣泛應用于光譜分析、激光技術、光學儀器等領域，為各種光學應用提供了高性能的光學元件[更多]

噴孔板

噴孔板， 是一種通過電鑄技術制造的精密噴孔板，廣泛應用于各種工業(yè)領域，如噴墨打印頭、噴霧設備、精密噴涂等[更多]

微孔霧化網(wǎng)

微孔霧化網(wǎng)是一種利用電鑄技術制造的精密霧化元件，廣泛應用于醫(yī)療、美容、工業(yè)噴涂等領域。微孔電鑄霧化網(wǎng)通過在金屬基底上沉積精細的微孔結構，利用這些微孔將液體或氣體分散成微小的霧滴或氣溶膠[更多]

反射碼盤

射碼盤是一種利用電鑄技術制造的精密光學元件，廣泛應用于編碼器、光學測量儀器和精密定位系統(tǒng)中。反射碼盤通過在金屬基底上沉積精細的光柵或刻線結構，利用光的反射和衍射原理實現(xiàn)精確的角度或位置測量[更多]

電鑄光闌片

具有高精度、高反射率、耐用性和復雜結構等優(yōu)點。電鑄光闌片廣泛應用于顯微鏡、望遠鏡、激光器等光學儀器中，為各種光學應用提供了高性能的光學元件[更多]

電鑄掩膜版

具有高精度、高深度比、高分辨率和可重復性等優(yōu)點。主要用于在半導體、光電顯示、太陽能電池等領域進行精細 圖案的復制和轉(zhuǎn)移[更多]

印刷模板

電鑄印刷模板是一種用于表面貼裝技術（SMT）和印刷電路板（PCB）制造的精密工具[更多]

測試探針

測試探針， 是一種利用電鑄工藝制造的精密測試探針，廣泛應用于半導體、 電路板（PCB）以及其他電子元件的測試中[更多]

晶圓模板

蝕刻晶圓模板主要用于在晶圓表面精確地制造微納結構。它通過蝕刻技術，在模板材料上形成特定的圖案，這些圖案可以是集成電路中的各種電路元件，如晶體管、電容器等的布局形狀。在制造過程中，利用光刻膠等材料將模板上的圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面，然后通過蝕刻工藝將晶圓上不需要的材料去除，從而得到與模板圖案相對應的微觀結構。[更多]

整卷連續(xù)蝕刻

整卷連續(xù)蝕刻是一種高精密度和高自動化的化學連續(xù)蝕刻方式，主要是針對不銹鋼卷料、銅卷料、連續(xù)沖壓后帶定位孔的卷料，采用料帶連續(xù)蝕刻產(chǎn)能高、質(zhì)量穩(wěn)定、劃傷和打折的風險較低。[更多]

料帶蝕刻

料帶蝕刻是一種高精密度和高自動化的化學連續(xù)蝕刻方式，主要是針對不銹鋼卷料、銅卷料、連續(xù)沖壓后帶定位孔的卷料。采用料帶連續(xù)蝕刻產(chǎn)能高、質(zhì)量穩(wěn)定、劃傷和打折的風險較低,[更多]

高溫合金蝕刻

高溫合金密度低，是目前金屬結構材料中的良好材料，并具有比強度和比剛度高、電磁屏蔽能力強、切削加工性能好及抗震能力強等優(yōu)點，在汽車、航天航空、電子通訊和輕量化制造等領域具有廣闊的應用前景，成為減重節(jié)能和保護環(huán)境的首選材料。[更多]

料帶連續(xù)蝕刻

料帶蝕刻也稱卷對卷蝕刻或卷料蝕刻。是一種高精密度和高自動化的化學連續(xù)蝕刻方式，主要針對不銹鋼卷料、銅卷料、連續(xù)沖壓后帶定位孔的柔性成卷材料，可以實現(xiàn)整卷全線自動化連續(xù)曝光和連續(xù)蝕刻；整個制程無需人工接板和放板，所有工序均采用機械式或光學感應的自動化卷對卷料帶傳輸操作，此方式生產(chǎn)出的產(chǎn)品效率高，質(zhì)量更具穩(wěn)定性！[更多]

雙極板蝕刻

雙極板|雙極板蝕刻|雙極板腐蝕，適用于新能源氫能源電池電堆上[更多]

卷對卷蝕刻

高效率，高精度，高潔凈度，生產(chǎn)速度快[更多]

鈦蝕刻

鈦合金是近年代被開發(fā)并且迅猛發(fā)展的一種重要的結構金屬，鈦合金的特點是強度高而密度又小、耐高溫、耐蝕性好、組織十分穩(wěn)定。鈦合金按用途又可分為耐熱合金、高強合金、耐蝕合金（鈦-鉬，鈦-鈀合金等）、低溫合金以及特殊功能合金（鈦-鐵貯氧材料和鈦-鎳記憶合金）等。[更多]

蝕刻加工

蝕刻加工通常所指的蝕刻也稱光化學蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。[更多]